Xi X.X., Acharya N., Withanage W.K., Penmatsa S.V., Melbourne T., Cunnane D., Karasik B.S.
Ключевые слова: MgB2, thin films, substrate Si, buffer layers, HPCVD process, fabrication, microstructure, resistive transition, critical temperature, thickness dependence, critical caracteristics, critical current density, temperature dependence
Superconductor Science Technology, 2018, v.31, N 7, p.75009
Полный текст на Sci-Hub
Дополнительная информация
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ruТехническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.